죄송합니다. 더 이상 지원되지 않는 웹 브라우저입니다.

ASML ‘New Campus’, 화성에 세우다

이공흠기자(leekh@seminet.co.kr)

ASML은 2024년 화성에 약 2,400억원을 투자해 Local Repair Center (재제조, 보수 센터), Training Center, 체험관 등을 포함한 ‘New Campus’를 조성할 예정이다. 재제조센터(LRC)를 통해 최첨단 장비를 유지, 보수함으로써 국내 반도체기업의 안정적인 공급망에 기여하고, Training Center와 체험관을 통해 국내 업체 및 지역사회와의 접점을 늘리고 미래 반도체 산업에 기여할 인재 조기육성에 기여할 예정이다.

반도체 노광 시스템 선도기업 ASML
ASML은 전체 반도체 제조기술 중 가장 중요한 공정인 노광 (리소그래피, Lithography) 분야의 글로벌 선도기업이다. 세계 반도체 노광 장비 시장에서 부동의 1위를 지키고 있으며, 삼성, TSMC, SK하이닉스, 인텔 등 최고의 반도체 제조사 생산라인에서 핵심적인 역할을 하고 있다. 

ASML은 미세 전자 칩이 삶의 질을 향상시킬 수 있도록 최첨단 반도체 노광 장비를 위한 복합기술 개발에 앞장서고 있다. 또한, 좀 더 작고 저렴하지만 강력하고 에너지 효율이 높은 반도체를 지향하는 ‘무어의 법칙’을 이어가고자 연구개발에 주력한다. 

 

<그림 1> 반도체 노광 시스템 선도기업 ASML

실제로 ASML은 2010년 기준 25억 유로 (한화 3.4조 원) 이상의 금액을 연구개발비로 지출하며, 지난 4년간 83억 유로 (한화 약 11조 원) 이상의 금액을 연구 개발에 투자했다. 이러한 지속적인 투자를 바탕으로 ASML은 세계 최초로 극자외선 (EUV) 리소그래피 시스템을 개발 2019년도부터 고객사에서 양산이 가능하도록 지원했다. 극자외선 시스템 뿐만 아니라, 트윈스캔 (TWINSCAN) 리소그래피 플랫폼을 활용한 이머전 시스템을 제공하여 반도체 생산 업체에 필요한 솔루션을 제공하고 있다. 

리소그래피 시스템의 생산 및 제공 뿐만 아니라 리소 공정에 필요한 Modeling과 웨이퍼의 패턴을 계측하는 솔루션을 제공함으로써 리소 공정과 관련된 통합솔루션을 제공하고 있다. ASML은 회사의 장기적인 성장을 위해 Zeiss SMT (High-NA optics metrology vessel)의 투자와 High-NA를 활용한 EUV 장비를 연구개발하여 앞으로10년 이상의 리소 솔루션을 제공하기 위해 노력하고 있다. ASML은 고객사와 함께하는 기술 리더십, 고효율 프로세스, 그리고 기업가 정신, 이 세 가지 지침을 성공의 조건으로 두고 반도체 산업 발전에 기여하고 있다. 

ASML ‘New Campus’ 
ASML이 경기도 화성에 ‘New Campus’ 설립 계획을 발표하고 관련된 준공, 국내 반도체산업 발전에 기여할 청사진을 공개했다. ASML은 지난 2021년 11월 화성시·경기도와 MOU를 맺고, 약 2,400억 원 규모의 화성 New Campus에 대한 투자계획을 발표한 바 있다. 화성 New Campus는 동탄 2신도시 도시지원시설 용지에 건립되며, 이 공간에는 ASML Korea의 신사옥과 함께 재제조센터(Local Repair Center, 이하 LRC), 글로벌 트레이닝 센터, 익스피리언스 센터(체험관) 등을 포함한 새 클러스터가 조성된다. 

 

< ASML New Campus에 대해 발표하고 있는 피터 베닝크 CEO>

화성 New Campus의 외관은 반도체의 직선형 패턴과 동탄호수의 잔잔한 파동에서 영감을 받아 디자인됐으며, 주변 경관과의 조화를 고려해 최대한 자연의 빛과 간접조명을 이용해 설계됐다. 또한 국제적으로 가장 널리 알려진 친환경 건축 평가 및 인증제도 중 하나인 LEED (Leadership in Energy and Environmental Design)의 등급을 뛰어넘는 높은 레벨의 친환경 건축물로서, 태양열 전지를 사용해 에너지 자립도를 높였으며, 산업시설임에도 불구하고 오·폐수와 매연을 배출하지 않는다는 점이 큰 특징이다.

이러한 자연 친화적 화성 New Campus에 ASML은 새로운 재제조센터 (LRC)를 짓고 부품 수리 관련 국내 반도체 기업과의 협업을 확대한다는 계획이다. 현재 LRC에서는 중소기업과 활발한 협업이 이루어지고 있으며, 이번 이전을 계기로 LRC의 국산 수리 부품이 차지하는 비중을 10%에서 50%까지 끌어올려 국내 중소업체로의 아웃소싱 비율을 확대한다. 이를 통해 국내 중소기업의 동반성장에 기여할 뿐 아니라 네덜란드 본사에서 한국으로 부품 조달하는 대기시간과 물류량을 줄여 나가며 탄소배출 저감을 위한 인류 공동의 목표를 위해서도 노력해 나갈 방침이다. 

글로벌 트레이닝 센터에서는 연간 수천 시간의 훈련 과정을 제공하는 트레이너들이 ASML의 직원과 고객사를 위해 안전하고 비용 효율적인 방법으로 EUV 및DUV 엔지니어를 위한 종합적인 교육을 제공한다. 지금의 2.5 배의 공간에 EUV live 모듈과 차세대 EUV 장비인High NA 모듈이 추가돼 최신 사양의 EUV 교육과 High NA 장비 교육까지도 가능해진다. ASML Korea는 이곳을 활용하여 임직원과 고객사 엔지니어의 교육 뿐 아니라 국내 대학과도 연계해 산학 협력 프로그램을 개발하며 미래 반도체 산업을 위한 인재 육성에 기여할 계획이다.

익스피리언스 센터는 약 300 ㎡ 규모로 지역 사회를 위해 상시적으로 운영될 체험 공간이다. 반도체 제조 공정과ASML의 기술 역사를 한눈에 볼 수 있는 전시와 사이언스 캠프, 채용행사, 산학연계 프로그램 등을 운영할 예정이다. 사이언스 캠프는 ASML Korea 임직원들이 매년 이어가고 있는 자원봉사 활동 중 하나로, 익스피리언스 센터가 준공된 후에는 지역 내 아동들을 위한 과학 교육을 더욱 적극적으로 펼쳐 나갈 계획이다.

ASML 피터 베닝크 CEO는 “ASML의 New Campus 준공을 위해 여러가지로 힘써 주신 산업통상자원부, 경기도 및 화성시 포함 한국정부에 감사의 마음을 전한다. ASML은 장비와 기술 서비스를 제공하는 데 그치지 않고 장기적으로 고객사를 지원하기 위해 투자하고 있으며, 반도체 산업 발전을 위해서도 다각화된 방면에서 노력하고 있다. 화성 New Campus를 통해 이러한 우리의 노력이 미래 성장과 최고의 인재를 육성해 나가는 것으로 결실을 맺기를 기대한다”고 밝혔다.

ASML Korea의 이우경 대표이사는 “화성 New Campus를 통해 비용 효율적이고 보다 안정된 방식으로 국내 반도체 기업들과 긴밀히 협력해 나가게 될 것이다. 또한 화성 New Campus를 통해 지난 27년간 ASML 코리아가 한국 반도체 산업과 함께 성장하며 일궈온 성과들을 꾸준히 함께 나누면서 임직원들에게 자부심을 주는 자랑스러운 일터로 가꾸어 나가고 싶다”고 전했다.

ASML의 화성 New Campus는 오는 2024년 12월 입주를 목표로 설립될 예정이다.

ASML의 리소그래피 공정이란?
극히 미세하고 복잡한 전자회로를 반도체 웨이퍼에 그려 넣는 기술. 감광액을 바른 웨이퍼 위에 회로도 원판(마스크)을 놓고 빛을 쪼이면 빛에 노출된 부분만 형상화되는 원리다. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것이다. 마이크론(μm) 단위였던 반도체 회로선폭 미세공정이 2000년대 이후 나노(nm) 공정으로 넘어오면서 노광 공정에서 빛(광원)의 파장은 특히 중요해졌다.

<그림 2> 반도체 칩 제조 공정

전통적으로 광 리소그래피가 주류였으며, 초기 마이크로 공정의 노광기에는 수은등에서 방출되는 G-line (435nm), I-line (365nm)을 광원으로 사용해 왔다. 0.13마이크론이나 90나노 공정까지는 수은광보다 파장이 더 짧은 KrF (불화크립톤, 248nm) 를 레이저 광원으로 이용했다. 이후 90나노 이하에서 20나노급까지는 파장이 더 짧은 ArF (불화아르곤, 193nm)를 이용하고 있다.

40나노 이하 공정에서 ArF 노광 시스템만으로는 미세한 회로 선폭 구현이 어려워 이머전 시스템 (Immersion, 액침)이 도입됐다. 이머전이란 웨이퍼와 마스크 사이에 위치한 현미경 (프로젝션 렌즈)에 물을 채워 빛의 굴절률을 높이는 방법으로, 굴절률이 높아지면 현미경의 초점 심도가 깊어져 더 미세하게 회로를 그릴 수 있다.

7나노 반도체 양산를 위해서는 극자외선(EUV; Extreme Ultraviolet) 노광 시스템의 활용이 필수적이다. 극자외선(EUV)은 파장이 13.5nm로, 193nm인 ArF 보다 짧아 더욱 미세하게 반도체 회로를 구현한다. 현재 반도체 업계에서 요구하는 3 나노 이하의 공정에 적용하기 위한 High-NA기술 (기존 0.33 NA 값을 0.55NA로 높이는 기술)을 연구개발하고 있다. ASML은 이 EUV노광 시스템에 대한 기술을 독점으로 보유하고 있다. 

ASML의 선진 기술력 
ASML은 1984년 설립 이래, 선진 기술력과 연구개발로 반도체 노광 분야의 새로운 지평을 열어왔다. TWINSCAN 플랫폼 기반의 이머전 (Immersion) 노광 시스템은 ASML이 지난 2004년 업계 최초로 개발했다. 불화아르곤 (ArF) 노광기만으로 미세한 회로 선폭 구현이 어려웠던 상황에서 이머전 기술은 40나노급 반도체를 10나노 공정까지 획기적으로 발전시켰다. 

현재 ASML에서는 최신의 NXT:2000i의 DUV 시스템을 통해서 기술적인 혁신을 이어가고 있다. 또한, ASML 10나노 이하의 반도체 생산에 가장 핵심으로 꼽히는 극자외선 (EUV) 노광 시스템을 최초로 선보이며 지금까지 불가능하다고 생각했던 기술의 한계를 극복했다는 평을 얻었다. EUV 플랫폼인 TWINSCAN:NXE 시스템은 현재 시간당 170장의 생산성을 NXE:3400C 시스템을 통해 구현했다. 이러한 행보를 통해 무어의 법칙을 지속하고 실현해나가고 있다. 

(1)TWINSCAN NXE
TWINSCAN NXE는 업계 유일의 극자외선 (EUV: Extreme Ultraviolet) 리소그래피 플랫폼이다. 2006년의 proto 장비를 시작으로 최신 장비인 NXE:3400C는 7/5 나노의 반도체 양산을 지원하며 검증된 생산성과 개선된 오버레이(Overlay)으로 EUV 기술을 이용한 반도체 생산이 가능하게 하여 2020년 이후에 필요한 노광 공정의 기술을 제공한다. NXE 스텝 앤 스캔 시스템은주석(tin)계 플라즈마 소스에 의해 생성된 13.5nm의 극자외선 광원을 사용한다. 칼자이즈의 26mm x 33mm의 최대 노광 영역을 가진 4배 축소 반사형 렌즈군으로 구성된다. 

(2)TWINSCAN NXT
TWINSCAN NXT는 듀얼 스테이지 이머전 리소그래피 시스템으로, 높은 생산성을 자랑한다. 파장이 193nm인 ArF(불화아르곤)광원을 사용한다. 가장 진보된 이머전 스캐너로 꼽히는 NXT:2000i는 7나도 이하의 양산 공정에 적용이 가능하며 시간당 275장 이상의 웨이퍼를 생산 가능하다.   

(3)TWINSCAN XT
TWINSCAN XT는 듀얼 스테이지 이머전 리소그래피 시스템으로, 193nm 파장의 ArF (불화아르곤) 광원을 이용한다. XT:1950Hi, XT:1450H, XT:1000K, XT:1000H 등이 있으며, 제품별로 38nm 이상 120nm 이하 해상도 공정에 사용되는 200mm 또는 300mm 웨이퍼 처리에 주로 사용된다. 

(4)PAS 5500
PAS는 1984년 ASML이 처음으로 선보인 리소그래피 플랫폼이다. 현재는 PAS 5500시리즈가 주로 사용되며, 제품에 따라 ArF 광원, KrF 광원, I-line 광원 (수은등 레이저에서 나오는 빛) 등을 이용한다. 

ASML코리아
ASML코리아는 한국에 설치된 첫 장비를 지원하기 위해 지난 1996년 설립된 이래, 27년 간 한국 반도체 산업의 핵심적 역할을 해 왔다. 국내 반도체 제조사에 최신 장비를 지원하는 것은 물론, 장비 성능 유지를 위한 기술 서비스를 제공하고 있다. 또한, 우수한 국내 엔지니어를 해외에 파견, 네덜란드, 미국, 아시아 지역 등 세계 각국에서 반도체 기술 향상에 이바지하고 있다.

ASML 코리아의 본사는 경기도 화성에 위치하고 있으며, 고객에 빠르고 정확한 서비스를 위해 이천, 청주 그리고 평택에 오피스가 있다. 또한 ASML 의 글로벌 물류 허브 역할을 하는 GDC (Global Distribution Center)가 인천공항 자유무역 지대에 자리하고 있으며, 화성 본사에 교육시설인 트레이닝 센터와 고객에게 생산에 중요한 부품 제공을 위해 Local Repair Center가 있다. 

10여 명으로 출발한 ASML코리아는 현재 2,000여 명의 우수한 인재가 모인 대표적 글로벌 기업으로 성장했다. 일하고 만나고 배우고 공유하는 일터를 표방하는 ASML의 기업문화 이념에 따라, ASML코리아 또한 다양한 문화를 수용한 수평적인 조직구조를 갖고 있다. 또한, 임직원에게 해외 엔지니어와의 협업 등 지속적인 자기발전의 기회를 제공하고 있다. 

뿐만 아니라, ASML코리아는 매년 이공계 학생에게 소정의 장학금 등 사회공헌활동을 이어오고 있으며, 활발한 인재채용으로 한국사회에 기여하고자 노력하고 있다. 2013년부터 2017년까지 한국반도체연구조합과 반도체 산업향 미래소자 원천기술개발 국책사업에 참여하였으며, 2017년부터는 ASML Foundation을 통해 학생들의 과학에 대한 관심을 높이기 위한 사회 공헌 활동과 에이블 아트를 후원하여 장애인 예술활동에도 사회 공헌 활동을 진행하고 있다. 

leekh@seminet.co.kr
(끝)
<저작권자(c) 반도체네트워크, 무단 전재-재배포 금지>