ACM 리서치, 첨단 패키징 애플리케이션을 위한 SFP 장비 출시 | 반도체네트워크

죄송합니다. 더 이상 지원되지 않는 웹 브라우저입니다.

반도체네트워크의 다양한 최신 기능을 사용하려면 이를 완전히 지원하는 최신 브라우저로 업그레이드 하셔야 합니다.
아래의 링크에서 브라우저를 업그레이드 하시기 바랍니다.

Internet Explorer 다운로드 | Chrome 다운로드

ACM 리서치, 첨단 패키징 애플리케이션을 위한 SFP 장비 출시



- Ultra SFP ap, TSV 및 FO-WLP 패키징 공정에 기존CMP의 환경친화적 대안 제공
- 중국의 선도적인 OSAT 기업에 첫번째 장비 공급

ACM_Research_Ultra_SFP_ap.jpg

반도체 및 첨단 웨이퍼 레벨 패키징 애플리케이션을 위한 선도적인 웨이퍼 처리 솔루션 공급기업인 ACM 리서치(ACM Research, NASDAQ: ACMR)가 첨단 패키징 솔루션을 위한 새로운 장비 ‘Ultra SFP ap’를 발표했다. Ultra SFP ap는 TSV(through-silicon via) 및 FO-WLP(fan-out wafer-level packaging) 공정에서 발생하는 수율 문제, 예컨대 TSV에서 구리 초과 충전이나 FO-WLP 공정에서 발생하는 웨이퍼 휨 문제 등을 해결하도록 설계되었다

ACM의 검증된 SFP(stress-free polishing) 기술을 활용하는 Ultra SFT ap는 SFP 기술을 화학적/기계적 평탄화(CMP) 및 습식 식각 챔버와 함께 하나의 시스템에 통합하였다. 프로세스 웨이퍼는 3단계 공정을 거치며 챔버를 통해 이동하면서 초과 충전된 구리를 부드럽게 제거하고 웨이퍼 휨 현상을 완화한 다음, 최종 평탄화 및 습식 식각 단계에 들어간다. 또한, 이 SFP ap는 전해액 재활용 및 재사용 빌트인 시스템을 통해 화학물질 사용을 대폭 줄임으로써 더 낮은 소유비용으로 보다 오랫동안 지속가능하고 환경친화적인 옵션을 제공한다. 

ACM 리서치의 데이비드 왕(David Wang) CEO는 “ACM은 2009년에 이미 SFP 기술에 대한 연구개발을 마쳤다. 10년 이상 시대를 앞서 간 셈이다”라고 밝히고, “TSV와 FO-WLP 애플리케이션이 급격한 늘어나고, 여기에 보다 적은 소유 비용 및 소모품 비용으로 환경친화적인 공정을 추진하려는 분위기가 더해지면서, 이제 우리가 Ultra SFP을 소개할 수 있는 이상적인 시장 여건이 마련되었다”고 설명했다. 

ACM의 전기-구리 도금(ECP) 기술과 유사하지만 거꾸로인, Ultra SFP ap 고유의 전기-화학 반응 메커니즘은 웨이퍼가 척(Chuck) 위에서 회전할 때 전해질과 전원을 웨이퍼에 동시에 공급함으로써 웨이퍼 표면의 금속이온을 전기적으로 제거한다. TSV와 팬아웃 애플리케이션 모두에서 Ultra SFP ap의 3단계 방식은 공정 중에 웨이퍼에 가해지는 스트레스를 효과적으로 제거한다. 먼저, TSV 애플리케이션에서는 SFP가 TSV 충전 후에 초과 충전된 벌크 구리를 0.2μm까지 제거한다. 다음으로, CMP 작업을 통해 웨이퍼를 평탄하게 하고 티타늄 장벽층까지 잔류 구리를 제거한다. 마지막으로, 습식 식각 단계에서는 티타늄 제거와 산화막층 노출이 이루어진다. FO-WLP에서는 이와 똑같은 일련의 절차를 적용함으로써 웨이퍼 휨 현상을 없애고, 초과 충전된 구리를 제거하며, 재배선층(redistribution layer, RDL)을 평탄화 할 수 있다.

전해질과 습식 식각 화학물질은 전해질 재활용 빌트인 시스템을 통해 실시간으로 재활용 및 재사용되기 때문에, Ultra SFP ap는 전반적인 소모품 사용량을 크게 줄일 수 있다. 또한 이 시스템은 제거한 금속 물질들을 회수할 수 있는 기능이 있어 다른 용도로도 사용할 수 있기 때문에 지속가능성을 더욱 높인다.

Ultra SFP ap 335는 2개의 SFP 챔버와 1개의 CMP 스테이션 그리고 2개의 습식 식각/세정 챔버로 구성된다. 공정에 필요한 화학물질에는 전해질, 구리 슬러리, 구리 에칭제 그리고 티타늄 에칭제가 포함된다. 3가지 공정 모두 1분당 0.5µm의 제거율을 나타내며, 웨이퍼 내 불균일도는 3% 미만, 웨이퍼 대 웨이퍼 불균일도는 1.5% 미만이다. 

이와 함께 ACM은 중국의 선도적인 WLP 기업에 첫 번째 Ultra SFP ap 장비를 2019년 4분기에 납품했다고 발표했다. 

이와 함께 ACM은 Ultra SFP ap 장비의 첫 번째 공급은 2019년 4분기에 중국의 선도적인 WLP 기업을 대상으로 이루어졌다고 발표했다. 이 반도체 패키지후공정 외주기업(OSAT)은 자사 연구개발 라인에서 장비 검증을 진행 중이며, 장비 성능에 대한 첫 번째 데이터는 2020년 중반에 나올 것으로 예상된다. 그 후, 이 장비는 생산 라인으로 옮겨져 추가 검증을 거친 후 고객의 승인을 받게 될 것이다.

ACM 리서치 회사 소개
ACM 리서치(ACM Research, Inc.)는 첨단 반도체 디바이스 제조와 웨이퍼 레벨 패키징 작업에 필수인 표면 처리 및 습식 세정 애플리케이션을 위한 단일 웨이퍼 공정 장비를 제조 및 판매한다. ACM은 반도체 제조사가 수많은 제조 단계에서 이물질이나 오염, 그 밖에 다른 임의 결함을 제거하여 제조 수율을 높일 수 있도록 스트레스가 없고, 환경 친화적이며, 비용 효과적인 공정 솔루션을 공급하기 위해 최선을 다하고 있다. 


+반도체네트워크 소개
회사의 신제품/개발/기타 뉴스에 관한 소식을 제공 받습니다. 아래 이메일 주소로 보내 주시면 검토하여 관련 엔지니어들에게 뉴스레터로 배포 해 드립니다. 많은 뉴스 보내주시기 바랍니다.
leekh@seminet.co.kr
(끝)
<저작권자(c) 반도체네트워크, 무단 전재-재배포 금지>

X


PDF 다운로드

개인정보보호법 제15조에 의한 수집/이용 동의 규정과 관련하여 아래와 같이 PDF 다운로드를 위한 개인정보 수집 및 이용에 동의하십니까? 동의를 거부할 수 있으며, 동의 거부 시 다운로드 하실 수 없습니다.

이메일을 입력하면,
(1) 신규참여자 : 성명/전화번호/회사명/분야를 입력할 수 있는 입력란이 나타납니다.
(2) 기참여자 : 이메일 입력만으로 다운로드가 가능합니다.

×

회원 정보 수정